Patterning Challenges in Microelectronics

Sebastien Barnola (1) , Nicolas Posseme (1) , Stefan Landis (1) , Maxime Darnon (2, 3, 4)

1 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
2 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
3 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes
4 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines: Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Sebastien Barnola, Nicolas Posseme, Stefan Landis, Maxime Darnon. Patterning Challenges in Microelectronics. Plasma Etching Processes for CMOS Devices Realization, Elsevier, pp.59-94, 2017, ⟨10.1016/B978-1-78548-096-6.50003-1⟩. ⟨hal-02338425⟩