Chapitre D'ouvrage
Année : 2017
Maxime Darnon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02338424
Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-01:39:14
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:24:17
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02338424 , version 1
- DOI : 10.1016/B978-1-78548-096-6.50002-X
Citer
Maxime Darnon. Plasma Etching in Microelectronics. Plasma Etching Processes for CMOS Devices Realization, Elsevier, pp.23-58, 2017, ⟨10.1016/B978-1-78548-096-6.50002-X⟩. ⟨hal-02338424⟩
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