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Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Optical and electrical diagnostics in chlorine based pulsed plasmas of an industrial silicon etching reactor

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique Sciences de l'ingénieur [physics]

Maxime Darnon  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02338122

Soumis le : mardi 29 octobre 2019-19:13:00

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:16

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Dates et versions

hal-02338122 , version 1 (29-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338122 , version 1

Citer

Nader Sadeghi, Gilles Cunge, Maxime Darnon, Emilie Despiau-Pujo, Nicholas St J Braithwaite. Optical and electrical diagnostics in chlorine based pulsed plasmas of an industrial silicon etching reactor. 1st International Middle-East Plasma Science, Turkey, Apr 2014, Istambul, Turkey. ⟨hal-02338122⟩

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