Tilted beam scanning electron microscopy, 3-D metrology for microelectronics industry - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Année : 2019
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Dates et versions

hal-02324657 , version 1 (22-10-2019)

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Citer

Charles Valade, Jérôme Hazart, Sébastien Bérard-Bergery, Elodie Sungauer, Maxime Besacier, et al.. Tilted beam scanning electron microscopy, 3-D metrology for microelectronics industry. Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, 2019, 18 (03), pp.1. ⟨10.1117/1.JMM.18.3.034001⟩. ⟨hal-02324657⟩
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