Physical and chemical characterization of a combined 20 / 500 kHz ultrasonic reactor

Jean-Marc Lévêque (1, 2) , Nicolas Gondrexon (1) , Stéphane Baup (1) , Sonia Molina-Boisseau (3) , R. Vibert (4) , Arnaud Perrier (4) , Gwenaël Gaborit (5, 6) , Farah Aljammal (5) , Stéphane S. Labouret (7)

1 LRP - Laboratoire Rhéologie et Procédés
2 USMB [Université de Savoie] [Université de Chambéry] - Université Savoie Mont Blanc
3 CERMAV - Centre de Recherches sur les Macromolécules Végétales
4 Synétude
5 IMEP-LAHC - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
6 Kapteos SAS
7 LAGEPP - Laboratoire d'automatique, de génie des procédés et de génie pharmaceutique

Domaines: Optique / photonique; Electromagnétisme; Optique [physics.optics]; Plasmas; Génie des procédés

Jean-Marc Lévêque, Nicolas Gondrexon, Stéphane Baup, Sonia Molina-Boisseau, R. Vibert, et al.. Physical and chemical characterization of a combined 20 / 500 kHz ultrasonic reactor. 4th Meeting of the Asia-Oceania Society of Sonochemistry, Sep 2019, Nanjing, China. ⟨hal-02321483⟩