Communication Dans Un Congrès
Année : 2019
UMI3463 LN2 : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02320605
Soumis le : vendredi 18 octobre 2019-21:19:46
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:42:06
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02320605 , version 1
Citer
A Elshaer, R Stricher, M. Darnon, D. Drouin, S. Ecoffey. Patterning Platinum using CMP and plasma etching industrially compatible processes. 45th International Conference on Micro and Nano Engineering MNE, Aug 2019, Rhodes, Greece. ⟨hal-02320605⟩
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