Method for structuring and transferring a mask in a substrate
Procédé de structuration et de transfert d’un masque dans un substrat
Résumé
La présente invention concerne un procédé de structuration haute résolution et de transfert d’un masque dans un substrat ; selon l’invention, ledit masque est constitué de ZnO structuré et le transfert du ZnO dans le substrat est réalisé par gravure sèche. La structuration peut être directe ou indirecte. Un masque autosupporté peut être prévu, apte à être déposé sur un substrat indépendant.