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Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Atomic Layer Etching at cryogenic temperature

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph] Sciences de l'ingénieur [physics] Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Thomas Tillocher  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02311323

Soumis le : jeudi 10 octobre 2019-18:09:01

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:12

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02311323 , version 1 (10-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02311323 , version 1

Citer

Gaëlle Antoun, Gaelle Antoun, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart, et al.. Atomic Layer Etching at cryogenic temperature. Plasma Thin Film International Union Meeting, Sep 2019, Antibes, France. ⟨hal-02311323⟩

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