Poster De Conférence
Année : 2017
Thomas Tillocher : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02306057
Soumis le : vendredi 4 octobre 2019-18:33:47
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02306057 , version 1
Citer
Nicolas Holtzer, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart. Cryogenic ALE of silicon oxide. Plasma Etch and Strip in Microtechnology, Oct 2017, Leuven, Belgium. ⟨hal-02306057⟩
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