Top-down fabrication of GaN nano-laser arrays by displacement Talbot lithography and selective area sublimation - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Physics Express Année : 2019

Dates et versions

hal-02304928 , version 1 (03-10-2019)

Identifiants

Citer

Benjamin Damilano, Pierre-Marie Coulon, Stephane Vézian, Virginie Brandli, Jean-Yves Duboz, et al.. Top-down fabrication of GaN nano-laser arrays by displacement Talbot lithography and selective area sublimation. Applied Physics Express, 2019, 12 (4), pp.045007. ⟨10.7567/1882-0786/ab0d32⟩. ⟨hal-02304928⟩
40 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More