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Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Si-based Micro Hollow Cathode Discharges: from Fabrication to Application

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph] Plasmas Milieux fluides et réactifs Optique / photonique Ingénierie biomédicale

Sylvain Iséni  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02286106

Soumis le : vendredi 13 septembre 2019-14:09:44

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:12

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02286106 , version 1 (13-09-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02286106 , version 1

Citer

Ronan Michaud, Sylvain Iseni, Arnaud Stolz, Olivier Aubry, Philippe Lefaucheux, et al.. Si-based Micro Hollow Cathode Discharges: from Fabrication to Application. International Workshop on Microplasmas (IWM 10), 2019, Kyoto, Japan. ⟨hal-02286106⟩

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