Atomic Layer Deposition, a Key Technique for Processing Thin-Layered SOFC Materials - Case Of Epitaxial Thin Layers of CeO2 Catalyst

A. Marizy (1) , T. Desaunay (1) , D. Chery (1) , Pascal Roussel (2) , A. Ringuedé (1) , M. Cassir (1)

1 LECIME - Laboratoire d'Electrochimie, Chimie des Interfaces et Modélisation pour l'Energie (LECIME - UMR 7575)
2 UCCS - Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181

Domaines: Chimie inorganique

A. Marizy, T. Desaunay, D. Chery, Pascal Roussel, A. Ringuedé, et al.. Atomic Layer Deposition, a Key Technique for Processing Thin-Layered SOFC Materials - Case Of Epitaxial Thin Layers of CeO2 Catalyst. ECS Transactions, 2013, 57 (1), pp.983-990. ⟨10.1149/05701.0983ecst⟩. ⟨hal-02263473⟩