Article Dans Une Revue
Plasma Sources Science and Technology
Année : 2011
Gérard Henrion : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02190534
Soumis le : lundi 22 juillet 2019-15:20:14
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02190534 , version 1
- DOI : 10.1088/0963-0252/20/2/024004
Citer
T. Belmonte, T. Gries, R. Cardoso, G Arnoult, F. Kosior, et al.. Chemical vapour deposition enhanced by atmospheric microwave plasmas: a large-scale industrial process or the next nanomanufacturing tool?. Plasma Sources Science and Technology, 2011, 20 (2), pp.024004. ⟨10.1088/0963-0252/20/2/024004⟩. ⟨hal-02190534⟩
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