Article Dans Une Revue
Crystal Engineering
Année : 2002
Patrick Laffez : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02179095
Soumis le : mercredi 10 juillet 2019-14:10:05
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02179095 , version 1
- DOI : 10.1016/S1463-0184(02)00043-6
Citer
P. Goudeau, P. Laffez, Mustapha Zaghrioui, E. Elkaim, P. Ruello. X-ray diffraction investigation of the relationship between strains and metal-insulator transition in NdNiO3 thin films. Crystal Engineering, 2002, 5 (3-4), pp.317-325. ⟨10.1016/S1463-0184(02)00043-6⟩. ⟨hal-02179095⟩
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