What limits the conductivity of ZnO:Al thin films? A new model to link electrical properties and deposition conditions

Viet Huong Nguyen (1) , Ulrich Gottlieb (1) , Anthony Valla (2, 3) , Bruno Masenelli (4) , Delfina Muñoz (5) , Daniel Bellet (1) , David Muñoz-Rojas (1)

1 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
2 LIESP - Laboratoire d'Informatique pour l'Entreprise et les Systèmes de Production
3 PRISMA - Laboratoire de Productique et Informatique des systèmes manufacturiers
4 INL - S&N - INL - Spectroscopies et Nanomatériaux
5 DTS - Département des Technologies Solaires

Domaines: Matériaux

Viet Huong Nguyen, Ulrich Gottlieb, Anthony Valla, Bruno Masenelli, Delfina Muñoz, et al.. What limits the conductivity of ZnO:Al thin films? A new model to link electrical properties and deposition conditions. E-MRS, May 2019, Nice, France. ⟨hal-02112226⟩