Field Evaporation Behavior of Metal Oxide/Metal Interfaces - Archive ouverte HAL

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Article Dans Une Revue Microscopy and Microanalysis Année : 2016

Field Evaporation Behavior of Metal Oxide/Metal Interfaces

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Mukesh Bachhav

Fonction : Auteur

University of Michigan [Ann Arbor]

François Vurpillot

Fonction : Auteur
PersonId : 174508
IdHAL : francois-vurpillot
ORCID : 0000-0002-6834-3507
IdRef : 061087629

Groupe de physique des matériaux

Frederic Danoix

Fonction : Auteur
PersonId : 174461
IdHAL : frederic-danoix
ORCID : 0000-0003-0511-9038
IdRef : 131439146

Groupe de physique des matériaux

Raphaële Danoix

Fonction : Auteur
PersonId : 175218
IdHAL : raphaele-danoix

Groupe de physique des matériaux

Béatrice Hannoyer

Fonction : Auteur

Groupe de physique des matériaux

Emmanuelle Marquis

Fonction : Auteur

University of Michigan [Ann Arbor]

Domaines

Physique [physics]

François Vurpillot : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02107553

Soumis le : mardi 23 avril 2019-16:48:53

Dernière modification le : mercredi 24 avril 2024-13:36:03

Dates et versions

hal-02107553 , version 1 (23-04-2019)

Identifiants

HAL Id : hal-02107553 , version 1
DOI : 10.1017/S1431927616004244

Citer

Mukesh Bachhav, François Vurpillot, Frederic Danoix, Raphaële Danoix, Béatrice Hannoyer, et al.. Field Evaporation Behavior of Metal Oxide/Metal Interfaces. Microscopy and Microanalysis, 2016, 22 (S3), pp.678-679. ⟨10.1017/S1431927616004244⟩. ⟨hal-02107553⟩

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