Plasma etching applications in concentrated photovoltaic cell fabrication

Mathieu de Lafontaine (1, 2) , Maxime Darnon (1, 2) , Abdelatif Jaouad (1, 2) , Pierre Albert (2, 1, 3) , Boussairi Bouzazi (1, 2) , Clement Colin (1, 2) , Maité Volatier (1, 2) , Simon Fafard (1, 2) , Richard Arès (1, 2) , Vincent Aimez (2, 1)

1 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes
2 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
3 IMS - Laboratoire de l'intégration, du matériau au système

Domaines: Sciences de l'ingénieur [physics]

Mathieu de Lafontaine, Maxime Darnon, Abdelatif Jaouad, Pierre Albert, Boussairi Bouzazi, et al.. Plasma etching applications in concentrated photovoltaic cell fabrication. 12th International Conference on Concentrator Photovoltaic Systems (CPV-12), May 2016, Freibourg, Germany. pp.060001, ⟨10.1063/1.4962091⟩. ⟨hal-02074637⟩