KTa0.65Nb0.35O3 thin films epitaxially grown by pulsed laser deposition on metallic and oxide epitaxial electrodes

A. Bouyasfi (1) , M. Mouttalie (1) , Valérie Demange (2) , Brice Gautier (3) , A. Grandfond , S. Députier (1) , S. Ollivier (4) , L’ Hamedi , Maryline Guilloux-Viry (1)

1 ISCR - Institut des Sciences Chimiques de Rennes
2 INRS ( Vandoeuvre lès Nancy) - Institut national de recherche et de sécurité (Vandoeuvre lès Nancy)
3 INL - DE - INL - Dispositifs Electroniques
4 LMFA - Laboratoire de Mecanique des Fluides et d'Acoustique

Domaines: Matériaux; Micro et nanotechnologies/Microélectronique; Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

A. Bouyasfi, M. Mouttalie, Valérie Demange, Brice Gautier, A. Grandfond, et al.. KTa0.65Nb0.35O3 thin films epitaxially grown by pulsed laser deposition on metallic and oxide epitaxial electrodes. Applied Surface Science, 2012, 258 (23), pp.9297-9301. ⟨10.1016/j.apsusc.2011.08.049⟩. ⟨hal-02074592⟩