Ge assisted SiC epitaxial growth by CVD on SiC substrate - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02025422 , version 1 (19-02-2019)

Identifiants

Citer

Kassem Alassaad, Véronique Soulière, Beatrice Doisneau, François Cauwet, Hervé Peyre, et al.. Ge assisted SiC epitaxial growth by CVD on SiC substrate. 15th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, Sep 2013, Miyasaki, Japan. pp.187-192, ⟨10.4028/www.scientific.net/MSF.778-780.187⟩. ⟨hal-02025422⟩
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