Fast prototyping using a dry film photoresist: microfabrication of soft-lithography masters for microfluidic structures - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Micromechanics and Microengineering Année : 2007

Fast prototyping using a dry film photoresist: microfabrication of soft-lithography masters for microfluidic structures

K. Stephan
  • Fonction : Auteur
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt
Patrick Pittet
INL - Conception de Systèmes Hétérogènes
CV
L Renaud
  • Fonction : Auteur
K Kleimann
  • Fonction : Auteur
P. Morin
Synchrotron SOLEIL
N. Ouaini
  • Fonction : Auteur
Faculté des Sciences et de Génie Informatique
R. Ferrigno
  • Fonction : Auteur
INL - Lab-On-Chip et Instrumentation

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique Optique / photonique Electronique Traitement du signal et de l'image [eess.SP]

Patrick PITTET  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02020712

Soumis le : vendredi 15 février 2019-13:47:50

Dernière modification le : mardi 31 octobre 2023-10:24:03

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02020712 , version 1 (15-02-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02020712 , version 1

Citer

K. Stephan, Patrick Pittet, L Renaud, K Kleimann, P. Morin, et al.. Fast prototyping using a dry film photoresist: microfabrication of soft-lithography masters for microfluidic structures. Journal of Micromechanics and Microengineering, 2007, 17 (10), pp.N69-N74. ⟨hal-02020712⟩

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