Inductively coupled plasma etching of germanium tin for the fabrication of photonic components

L. Milord (1) , J. Aubin (1) , A. Gassenq (2) , S. Tardif (3) , K. Guilloy (2) , N. Pauc (2) , J. Rothman (1) , A. Chelnokov (1) , J. Hartmann (1) , V. Calvo (2) , V. Reboud (1)

1 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
2 SiNaps - Silicon Nanoelectronics Photonics and Structures
3 NRS - Nanostructures et Rayonnement Synchrotron

Domaines: Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]; Optique / photonique; Micro et nanotechnologies/Microélectronique

L. Milord, J. Aubin, A. Gassenq, S. Tardif, K. Guilloy, et al.. Inductively coupled plasma etching of germanium tin for the fabrication of photonic components. SPIE OPTO 2017, Jan 2017, San Francisco, United States. pp.101080C, ⟨10.1117/12.2252280⟩. ⟨hal-02016468⟩