Expanding Plasma Process for Nitriding Mo–Ti Bilayer Thin Films

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Article dans une revue
Coatings, MDPI, 2019, 9 (2), pp.96
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Contributeur : Jean-Louis Jauberteau <>
Soumis le : mardi 12 février 2019 - 09:01:34
Dernière modification le : jeudi 21 février 2019 - 01:22:30

Identifiants

  • HAL Id : hal-02015152, version 1

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Citation

Isabelle Jauberteau, Richard Mayet, Julie Cornette, Pierre Carles, Denis Mangin, et al.. Expanding Plasma Process for Nitriding Mo–Ti Bilayer Thin Films. Coatings, MDPI, 2019, 9 (2), pp.96. 〈hal-02015152〉

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