Influence of the Geometric Parameters on the Deposition Mode in Spatial Atomic Layer Deposition: A Novel Approach to Area-Selective Deposition

Type de document :
Article dans une revue
Coatings, 2018, 9 (1), pp.5
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Contributeur : Labo Lmgp <>
Soumis le : samedi 12 janvier 2019 - 17:38:33
Dernière modification le : samedi 9 février 2019 - 18:47:24

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  • HAL Id : hal-01979153, version 1

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César Masse de La Huerta, Viet Nguyen, Jean-Marc Dedulle, Daniel Bellet, Carmen Jimenez, et al.. Influence of the Geometric Parameters on the Deposition Mode in Spatial Atomic Layer Deposition: A Novel Approach to Area-Selective Deposition. Coatings, 2018, 9 (1), pp.5. 〈hal-01979153〉

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