The efficacy of post porosity plasma protection against vacuum-ultraviolet damage in porous low-k materials - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2015

The efficacy of post porosity plasma protection against vacuum-ultraviolet damage in porous low-k materials

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Micro et nanotechnologies/Microélectronique
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K. Lionti, Maxime Darnon, W. Volksen, T. Magbitang, G. Dubois. The efficacy of post porosity plasma protection against vacuum-ultraviolet damage in porous low-k materials. Journal of Applied Physics, 2015, 117 (11), ⟨10.1063/1.4915508⟩. ⟨hal-01916782⟩

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