Modification of porous SiOCH by first contact with water vapor after plasma process

Maxime Darnon (1, 2, 3) , Névine Rochat (4) , Christophe Licitra (4)

1 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes
2 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
3 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
4 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Mots clés: plasma low-k porous water

Domaines: Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Maxime Darnon, Névine Rochat, Christophe Licitra. Modification of porous SiOCH by first contact with water vapor after plasma process. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2015, 33 (6), pp.061205. ⟨10.1116/1.4932533⟩. ⟨hal-01916773⟩