Use of oxygen isotope to study the transport mechanism during high temperature oxide scale growth - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials at High Temperatures Année : 2003

Use of oxygen isotope to study the transport mechanism during high temperature oxide scale growth

S. Chevalier
  • Fonction : Auteur
G. Strehl
  • Fonction : Auteur
Jérôme Favergeon
Roberval
CV
F. Desserrey
  • Fonction : Auteur
Sébastien J. Weber
Laboratoire de physique des matériaux
CV
O. Heintz
Laboratoire de Recherche sur la Réactivité des Solides
G. Borchardt
  • Fonction : Auteur
FB Physik, Metallurgie und Werkstoffwissenschaften, Avt. Thermochemie une Mikrokinetik
J.P Larpin
  • Fonction : Auteur

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux

Jérôme FAVERGEON  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

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Soumis le : vendredi 2 novembre 2018-17:15:38

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Citer

S. Chevalier, G. Strehl, Jérôme Favergeon, F. Desserrey, Sébastien J. Weber, et al.. Use of oxygen isotope to study the transport mechanism during high temperature oxide scale growth. Materials at High Temperatures, 2003, 20 (3), pp.253 - 259. ⟨10.1179/mht.2003.029⟩. ⟨hal-01911392⟩

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