Tin dioxide nanoparticles as catalyst precursors for plasma-assisted vapor–liquid–solid growth of silicon nanowires with well-controlled density

Letian Dai (1, 2, 3) , Isabelle Maurin (3) , Martin Foldyna (1) , José Alvarez (2) , Weixi Wang (1) , Hamza Mohsin (1, 3) , Wanghua Chen (1) , Jean-Paul Kleider (2) , Jean-Luc Maurice (1) , Thierry Gacoin (4) , Pere Roca I Cabarrocas (1)

1 LPICM - Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces [Palaiseau]
2 GeePs - Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris
3 LPMC - Laboratoire de Physique de la Matière Condensée
4 LPMC - Laboratoire de physique de la matière condensée

Domaines: Physique [physics]; Matière Condensée [cond-mat]; Matériaux

Letian Dai, Isabelle Maurin, Martin Foldyna, José Alvarez, Weixi Wang, et al.. Tin dioxide nanoparticles as catalyst precursors for plasma-assisted vapor–liquid–solid growth of silicon nanowires with well-controlled density. Nanotechnology, 2018, 29 (43), ⟨10.1088/1361-6528/aad7db⟩. ⟨hal-01908717⟩