Spatial distribution of structural defects in Cz-seeded directionally solidified silicon ingots: An etch pit study - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Crystal Growth Année : 2018
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Dates et versions

hal-01907536 , version 1 (29-10-2018)

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Citer

Arthur Lantreibecq, M. Legros, N. Plassat, J.P. Monchoux, É. Pihan. Spatial distribution of structural defects in Cz-seeded directionally solidified silicon ingots: An etch pit study. Journal of Crystal Growth, 2018, 483, pp.183 - 189. ⟨10.1016/j.jcrysgro.2017.11.024⟩. ⟨hal-01907536⟩
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