Inductive Effect of Nd for Ni 3+ Stabilization in NdNiO 3 Synthesized by Reactive DC Cosputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physical Chemistry C Année : 2017

Inductive Effect of Nd for Ni 3+ Stabilization in NdNiO 3 Synthesized by Reactive DC Cosputtering

A. Boileau
  • Fonction : Auteur
Institut Jean Lamour
Fabien Capon
Institut Jean Lamour
CV
R. Coustel
Laboratoire de Chimie Physique et Microbiologie pour l'Environnement
CV
P. Laffez
GREMAN (matériaux, microélectronique, acoustique et nanotechnologies)
CV
Silvère Barrat
Institut Jean Lamour
CV
J.F. Pierson
Institut Jean Lamour
CV

Domaines

Matériaux

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https://hal.science/hal-01865548

Soumis le : vendredi 31 août 2018-17:05:08

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

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Dates et versions

hal-01865548 , version 1 (31-08-2018)

Identifiants

Citer

A. Boileau, Fabien Capon, R. Coustel, P. Laffez, Silvère Barrat, et al.. Inductive Effect of Nd for Ni 3+ Stabilization in NdNiO 3 Synthesized by Reactive DC Cosputtering. Journal of Physical Chemistry C, 2017, 121 (39), pp.21579 - 21590. ⟨10.1021/acs.jpcc.7b02251⟩. ⟨hal-01865548⟩

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