Variation de la résistance de contact métal/semi-conducteur dans une structure HEMT GaN sous illumination UV - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Variation de la résistance de contact métal/semi-conducteur dans une structure HEMT GaN sous illumination UV

Résumé

Malgré la potentialité des composants de puissance HEMT en nitrure de gallium dans le domaine de l'électronique de puissance, de nombreux problèmes de fiabilité limitent encore les performances électriques théoriquement atteignables et nécessitent donc un effort d'analyse et de compréhension. La caractérisation de la résistance à l'état passant de ces transistors est nécessaire pour comprendre la dynamique de certains phénomènes tels que le piégeage. La dégradation de cette résistance a été toujours attribuée au piégeage dans le canal 2DEG, sans tenir compte des contributions possibles des contacts source et drain (métal/semi-conducteur). Dans ce travail, des mesures de résistance, avec et sans illumination UV, sont effectuées sur deux options technologiques différentes pour mettre en évidence l'effet de l'illumination sur les résistances de contact de certains procédés technologiques.
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Dates et versions

hal-02981923 , version 2 (13-07-2018)
hal-02981923 , version 1 (28-10-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02981923 , version 2

Citer

Dany Hachem, David Trémouilles, Frédéric Morancho, Gaëtan Toulon. Variation de la résistance de contact métal/semi-conducteur dans une structure HEMT GaN sous illumination UV. Symposium de Génie Electrique (SGE 2018), Université de Lorraine [UL], Jul 2018, Nancy, France. 4p. ⟨hal-02981923v2⟩
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