MD simulations of chlorine plasmas interaction with ultrathin silicon films for advanced etch processes. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

MD simulations of chlorine plasmas interaction with ultrathin silicon films for advanced etch processes.

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Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01798524

Soumis le : mercredi 23 mai 2018-15:33:44

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:22

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Dates et versions

hal-01798524 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01798524 , version 1

Citer

P. Brichon, E. Despiau-Pujo, O Mourey, C. Petit-Etienne, G. Cunge, et al.. MD simulations of chlorine plasmas interaction with ultrathin silicon films for advanced etch processes.. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 6th International Workshop, May 2014, grenoble, France. ⟨hal-01798524⟩

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