Pulsed Cl2/Ar ICP plasmas processing : 0D Model vs. Experiments - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Pulsed Cl2/Ar ICP plasmas processing : 0D Model vs. Experiments

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01798407 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01798407 , version 1

Citer

E. Despiau-Pujo, M. Brihoum, G. Cunge, M Darnon, N Braithwaite, et al.. Pulsed Cl2/Ar ICP plasmas processing : 0D Model vs. Experiments. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), May 2014, grenoble, France. ⟨hal-01798407⟩

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