Communication Dans Un Congrès
Année : 2014
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01798407
Soumis le : mercredi 23 mai 2018-14:29:59
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:17
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01798407 , version 1
Citer
E. Despiau-Pujo, M. Brihoum, G. Cunge, M Darnon, N Braithwaite, et al.. Pulsed Cl2/Ar ICP plasmas processing : 0D Model vs. Experiments. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), May 2014, grenoble, France. ⟨hal-01798407⟩
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