MD simulations of Cl2 plasmas interaction with ultrathin Si films for advanced etch processes” - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

MD simulations of Cl2 plasmas interaction with ultrathin Si films for advanced etch processes”

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01798396

Soumis le : mercredi 23 mai 2018-14:25:58

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:47

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01798396 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01798396 , version 1

Citer

P. Brichon, E. Despiau-Pujo, O Mourey, C. Petit-Etienne, G. Cunge, et al.. MD simulations of Cl2 plasmas interaction with ultrathin Si films for advanced etch processes”. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), May 2014, Grenoble (France), France. ⟨hal-01798396⟩

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