Communication Dans Un Congrès
Année : 2014
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01798393
Soumis le : mercredi 23 mai 2018-14:23:55
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:10
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01798393 , version 1
Citer
P. Brichon, E. Despiau-Pujo, O Mourey, C. Petit-Etienne, M Darnon, et al.. MD simulations of chlorine plasmas interaction with ultrathin Si films for advanced etch processes. 2014 Silicon Nanoelectronics Workshop (SNW), Jun 2014, Honolulu (USA), United States. ⟨hal-01798393⟩
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