Investigation of the resist outgassing and hydrocarbonaceous contamination induced in multi electron beams lithography tools - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Investigation of the resist outgassing and hydrocarbonaceous contamination induced in multi electron beams lithography tools

A-P. Mebiene-Engohang,
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
L. Pourteau, M.
  • Fonction : Auteur
C. Marusic, J.
  • Fonction : Auteur
L. Pain
  • Fonction : Auteur
T. Nakayama
  • Fonction : Auteur
A Miyake
  • Fonction : Auteur
M. Smits
  • Fonction : Auteur
S. David
S. Labau
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
J. Boussey
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.science/hal-01798368

Soumis le : mercredi 23 mai 2018-14:09:13

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:41:47

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Dates et versions

hal-01798368 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01798368 , version 1

Citer

A-P. Mebiene-Engohang,, L. Pourteau, M., C. Marusic, J., L. Pain, T. Nakayama, et al.. Investigation of the resist outgassing and hydrocarbonaceous contamination induced in multi electron beams lithography tools . Conference on Alternative Lithographic Technologies VI , 2014, san jose, United States. ⟨hal-01798368⟩

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