Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2014
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01798352
Soumis le : mercredi 23 mai 2018-13:55:08
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:10
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01798352 , version 1
Citer
A-P Mebiene-Engohang,, P. Michallon,, R. Tiron,, L. Pain, J Boussey. Resist outgassing assessment for multi electron beams lithography. Microelectronic Engineering, 2014, Volume: 125 pp.Pages: 58-61. ⟨hal-01798352⟩
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