Communication Dans Un Congrès
Année : 2017
Isabelle Labau : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01763083
Soumis le : mardi 10 avril 2018-16:53:24
Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:17
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01763083 , version 1
Citer
Nikolay Cherkashin, Nabil Daghbouj, Alain Claverie. Sequential He++H+ ion implantation in silicon: factors affecting blistering”. 4th International Conference On Nano Structuring by Ion Beam (ICNIB 2017), Oct 2017, Indore, India. ⟨hal-01763083⟩
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