Damage-free plasma etching of porous organo-silicate low-k using micro-capillary condensation above −50 °C

Romain Chanson (1) , Liping Zhang (2) , Sergej Naumov , Yuri Mankelevich , Thomas Tillocher (3) , Philippe Lefaucheux (3) , Rémi Dussart , Stefan de Gendt , Jean-François de Marneffe

1 IMEC - IMEC
2 Lab-STICC_UBO_MOM_DIM
3 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés

Domaines: Génie des procédés; Plasmas; Matériaux

Romain Chanson, Liping Zhang, Sergej Naumov, Yuri Mankelevich, Thomas Tillocher, et al.. Damage-free plasma etching of porous organo-silicate low-k using micro-capillary condensation above −50 °C. Scientific Reports, 2018, 8, pp.1886. ⟨10.1038/s41598-018-20099-5⟩. ⟨hal-01696587⟩