Article Dans Une Revue
Acta Materialia
Année : 2017
Alexis Deschamps : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01685222
Soumis le : mardi 16 janvier 2018-11:17:56
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01685222 , version 1
- DOI : 10.1016/j.actamat.2017.03.056
Citer
P. Lapouge, F. Onimus, M. Coulombier, J.-P. Raskin, T. Pardoen, et al.. Creep behavior of submicron copper films under irradiation. Acta Materialia, 2017, 131, pp.77 - 87. ⟨10.1016/j.actamat.2017.03.056⟩. ⟨hal-01685222⟩
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