Titanium and titanium nitride thin films grown by dc reactive magnetron sputtering Physical Vapor Deposition in a continuous mode on stainless steel wires: Chemical, morphological and structural investigations - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2017

Titanium and titanium nitride thin films grown by dc reactive magnetron sputtering Physical Vapor Deposition in a continuous mode on stainless steel wires: Chemical, morphological and structural investigations

Domaines

Chimie

Laurence LATU-ROMAIN  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01869162

Soumis le : jeudi 6 septembre 2018-12:06:44

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15

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Dates et versions

hal-01869162 , version 1 (06-09-2018)

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Citer

Laurence Latu-Romain, S. Grosso, G. Berthomé, G. Renou, T. Le Coz, et al.. Titanium and titanium nitride thin films grown by dc reactive magnetron sputtering Physical Vapor Deposition in a continuous mode on stainless steel wires: Chemical, morphological and structural investigations. Surface and Coatings Technology, 2017, 324, pp.318 - 327. ⟨10.1016/j.surfcoat.2017.05.089⟩. ⟨hal-01869162⟩

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