Reused of Slurry By Membrane Processes for Microelectronic Industry

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Water today, 2017, 123, pp.311-320
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Soumis le : mardi 5 décembre 2017 - 16:06:37
Dernière modification le : lundi 4 mars 2019 - 14:04:17

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  • HAL Id : hal-01656407, version 1

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Fabrice Testa, Clémence Coetsier, Emilie Carretier, M. Ennahali, Benoit Laborie, et al.. Reused of Slurry By Membrane Processes for Microelectronic Industry. Water today, 2017, 123, pp.311-320. 〈hal-01656407〉

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