Etude du contact ohmique Ti/Al/Ni/Au sur n-GaN pour applications hyperfréquences et haute température de TECs de puissance - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 1999

Etude du contact ohmique Ti/Al/Ni/Au sur n-GaN pour applications hyperfréquences et haute température de TECs de puissance

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01654466 , version 1 (04-12-2017)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01654466 , version 1

Citer

B. Boudart, S. Trassaert, Xavier Wallart, J.C. Pesant, L Fugère, et al.. Etude du contact ohmique Ti/Al/Ni/Au sur n-GaN pour applications hyperfréquences et haute température de TECs de puissance. 7es Journées Nationales Microélectronique et Optoélectronique (JNMO), 1999, Egat, France. ⟨hal-01654466⟩
24 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More