Control of microstructures and properties of dc magnetron sputtering deposited chromium nitride films

Z.G. Zhang; O. Rapaud; N. Bonasso; D. Mercs; C. Dong; C. Coddet

doi:10.1016/j.vacuum.2007.08.009

Article Dans Une Revue Vacuum Année : 2008

Control of microstructures and properties of dc magnetron sputtering deposited chromium nitride films

(1) , (1) , (1) , (1) , (2) , (1)

1
2

Z.G. Zhang

Fonction : Auteur

Laboratoire LERMPS

O. Rapaud

Fonction : Auteur
PersonId : 2023
IdHAL : olivier-rapaud
ORCID : 0000-0002-4426-760X
IdRef : 07152116X

Laboratoire LERMPS

CV

N. Bonasso

Fonction : Auteur
PersonId : 740973
IdHAL : nathalie-allain
ORCID : 0000-0003-4165-7941
IdRef : 074028626

Laboratoire LERMPS

D. Mercs

Fonction : Auteur

Laboratoire LERMPS

C. Dong

Fonction : Auteur

Dalian University of Technology

C. Coddet

Fonction : Auteur

Laboratoire LERMPS

Domaines

Matériaux Chimie théorique et/ou physique Matériaux

Olivier RAPAUD : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01620681

Soumis le : vendredi 20 octobre 2017-19:22:43

Dernière modification le : vendredi 4 août 2023-15:04:36

Dates et versions

hal-01620681 , version 1 (20-10-2017)

Identifiants

HAL Id : hal-01620681 , version 1
DOI : 10.1016/j.vacuum.2007.08.009

Citer

Z.G. Zhang, O. Rapaud, N. Bonasso, D. Mercs, C. Dong, et al.. Control of microstructures and properties of dc magnetron sputtering deposited chromium nitride films. Vacuum, 2008, 82 (5), pp.501 - 509. ⟨10.1016/j.vacuum.2007.08.009⟩. ⟨hal-01620681⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UNIV-BM UNIV-BM-THESE

39 Consultations

0 Téléchargements

Control of microstructures and properties of dc magnetron sputtering deposited chromium nitride films

Domaines

Dates et versions

Identifiants

Citer

Exporter

Collections

Altmetric

Partager