Random Lasing in wide-gap semiconductor thin films under deep UV pulsed laser pumping

Christophe Cachoncinlle; Eric Millon; Agnès Petit; Magdalena Nistor

doi:10.1016/j.matpr.2017.05.010

Article Dans Une Revue Materials Today: Proceedings Année : 2017

Random Lasing in wide-gap semiconductor thin films under deep UV pulsed laser pumping

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Christophe Cachoncinlle

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PersonId : 17661
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Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés

Eric Millon

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ORCID : 0000-0001-6087-8737
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Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés

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Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés

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Soumis le : vendredi 20 octobre 2017-10:04:20

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:05

Dates et versions

hal-01620052 , version 1 (20-10-2017)

Identifiants

HAL Id : hal-01620052 , version 1
DOI : 10.1016/j.matpr.2017.05.010

Citer

Christophe Cachoncinlle, Eric Millon, Agnès Petit, Magdalena Nistor. Random Lasing in wide-gap semiconductor thin films under deep UV pulsed laser pumping. Materials Today: Proceedings, 2017, 4, pp.S52 - S61. ⟨10.1016/j.matpr.2017.05.010⟩. ⟨hal-01620052⟩

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