Cavity-hollow cathode-sputtering source for titanium films

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Journal of Plasma Physics, Cambridge University Press (CUP), 2010, 76 (3-4), 〈10.1017/S0022377809990900〉
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Contributeur : Claire Douat <>
Soumis le : jeudi 5 octobre 2017 - 10:22:22
Dernière modification le : vendredi 6 octobre 2017 - 01:03:48

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R. Schrittwieser, C. Ionita, A. Murawski, C. Maszl, M. Asandulesa, et al.. Cavity-hollow cathode-sputtering source for titanium films. Journal of Plasma Physics, Cambridge University Press (CUP), 2010, 76 (3-4), 〈10.1017/S0022377809990900〉. 〈hal-01610893〉

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