Poster De Conférence
Année : 2016
Thomas Tillocher : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01561222
Soumis le : mercredi 12 juillet 2017-15:09:16
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:04
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01561222 , version 1
Citer
Edouard Laudrel, Thomas Tillocher, Yannick Méric, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, et al.. Chlorine-based plasma deep etching of bulk titanium. International Symposium on Dry Process 2016 (DPS2016), Nov 2016, Sapporo, Japan. ⟨hal-01561222⟩
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