Highly transparent low capacitance PEALD Al2O3-HfO2 tunnel junction engineering

K. El Hajjam (1, 2) , Nicolas Baboux (2) , Francis Calmon (2) , Abdelkader Souifi (2) , O. Poncelet (3) , L. Francis (3) , C. Ecoffey (4) , D. Drouin (1)

1 UdeS - Université de Sherbrooke
2 INL - DE - INL - Dispositifs Electroniques
3 UCL - Université Catholique de Louvain = Catholic University of Louvain
4 Centre Hospitalier Universitaire de Rennes [CHU Rennes] = Rennes University Hospital [Ponchaillou]

no abstract

Domaines: Sciences de l'ingénieur [physics]; Micro et nanotechnologies/Microélectronique; Optique / photonique; Matériaux

K. El Hajjam, Nicolas Baboux, Francis Calmon, Abdelkader Souifi, O. Poncelet, et al.. Highly transparent low capacitance PEALD Al2O3-HfO2 tunnel junction engineering. Journal of Vacuum Science and Technology, 2014, 32, pp.01A132. ⟨hal-01490344⟩