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Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Chitosan, an abundant biopolymer, as resist for green lithography

Mathieu Caillau
  • Fonction : Auteur
INL - Chimie et Nanobiotechnologies
Pierre Cremillieu
INL - Plateforme Technologique Nanolyon
Céline Chevalier
INL - Photovoltaïque
CV
Emmanuelle Laurenceau
INL - Chimie et Nanobiotechnologies
T. Delair
  • Fonction : Auteur
inconnu
Yann Chevolot
INL - Chimie et Nanobiotechnologies
Jean-Louis Leclercq
INL - Nanophotonique

Résumé

no abstract

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics] Optique / photonique Matériaux Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Laboratoire INL UMR5270 Inl  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01489621

Soumis le : mardi 14 mars 2017-14:57:52

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:04

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01489621 , version 1 (14-03-2017)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01489621 , version 1

Citer

Mathieu Caillau, Pierre Cremillieu, Céline Chevalier, Emmanuelle Laurenceau, T. Delair, et al.. Chitosan, an abundant biopolymer, as resist for green lithography. JNTE 2015, 2015, Ecully, France. ⟨hal-01489621⟩

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