Asymmetric diffusion as a key mechanism in Ni/Al energetic multilayer processing: A first principles study - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology A Année : 2010

Asymmetric diffusion as a key mechanism in Ni/Al energetic multilayer processing: A first principles study

M. Petrantoni
  • Fonction : Auteur
Anne Hémeryck
CV
J. M. Ducere
  • Fonction : Auteur
A. Esteve
C. Rossi
  • Fonction : Auteur
M. Djafari Rouhani
  • Fonction : Auteur
Daniel Esteve
  • Fonction : Auteur
Georges Landa
Laboratoire d'analyse et d'architecture des systèmes
CV

Résumé

no abstract

Domaines

Matière Condensée [cond-mat]

Georges Landa  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01481813

Soumis le : jeudi 2 mars 2017-23:40:08

Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:17

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Dates et versions

hal-01481813 , version 1 (02-03-2017)

Identifiants

Citer

M. Petrantoni, Anne Hémeryck, J. M. Ducere, A. Esteve, C. Rossi, et al.. Asymmetric diffusion as a key mechanism in Ni/Al energetic multilayer processing: A first principles study. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2010, 28 (6), pp.L15-L17. ⟨10.1116/1.3491182⟩. ⟨hal-01481813⟩

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