Wetting and interfacial chemistry of metallic films on the hydroxylated α − Al 2 O 3 ( 0001 ) surface

Rémi Lazzari; Jacques Jupille

doi:10.1103/PhysRevB.71.045409

Article Dans Une Revue Physical Review B: Condensed Matter and Materials Physics (1998-2015) Année : 2005

Wetting and interfacial chemistry of metallic films on the hydroxylated α − Al 2 O 3 ( 0001 ) surface

(1) , (1)

1

Rémi Lazzari

Fonction : Auteur
PersonId : 182273
IdHAL : remi-lazzari
ORCID : 0000-0003-2354-1953
IdRef : 175357587

Oxydes en basses dimensions

Jacques Jupille

Fonction : Auteur

Oxydes en basses dimensions

Domaines

Chimie-Physique [physics.chem-ph] Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Electromagnétisme Optique / photonique

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https://hal.science/hal-01442864

Soumis le : samedi 21 janvier 2017-14:41:19

Dernière modification le : mercredi 12 avril 2023-09:47:21

Dates et versions

hal-01442864 , version 1 (21-01-2017)

Identifiants

HAL Id : hal-01442864 , version 1
DOI : 10.1103/PhysRevB.71.045409

Citer

Rémi Lazzari, Jacques Jupille. Wetting and interfacial chemistry of metallic films on the hydroxylated α − Al 2 O 3 ( 0001 ) surface. Physical Review B: Condensed Matter and Materials Physics (1998-2015), 2005, 71 (4), ⟨10.1103/PhysRevB.71.045409⟩. ⟨hal-01442864⟩

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